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北京大学叶堉研究员来访编辑日期:2018-11-05 作者: 阅读次数:[关 闭]

  2018年10月30日上午10:00点,北京大学叶堉博士在科技合作大楼207会议室举行学术报告,张礼杰老师主持了本次学术报告会议,实验室各位老师和学生都参加了本次学术报告会。

  会议上,叶堉老师围绕主题“Desired two-dimensional material's properties by designed growth”对他近期的研究工作进行了详细的介绍。首先介绍了二维层状材料的发展背景。传统硅半导体的发展,面临着短沟道效应和高消耗等问题,而二维层状材料由于原子级的厚度及可调的带隙等性质一定程度上弥补了这样的缺陷。目前二维层状材料的发展也存在着一些局限,如材料与金属电极间存在着很大的接触电阻,开电流比较小,亚纳米级的晶体管的制作工艺等。接着叶堉老师为我们展示了他的研究进展和提出了通过设计生长提高材料的性能的思路。叶堉老师清晰明了的思路,简单易懂的话语给我们描绘了一位科研者从发现科研问题到解决科研问题一步步走来的过程,淋漓尽致的展现了一位科研者严谨认真勇于探索的科研素养,为我们日后的科研之路提供了借鉴,为大家树立了良好的榜样。

  报告结束后各位老师和同学对感兴趣的地方进行了提问,叶堉老师进行了细致和耐心的解答,与大家进行了深入探讨与交流。

  讲座一直持续到中午11:20。感谢北京大学的叶堉研究员给我们带来了如此精彩的报告! 


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